发光二极管及其制造方法
专利权的终止
摘要
本发明的目的在于提供使以下两种方法相协调的方法,这两种方法就是:使LED结构表面粗糙而提高取光效率的方法、与避免低成本的电极焊接点的不良影响的方法((1)形成基于金属或金属氧化物的透明导电膜的电流分散层,(2)形成倒装片结构)。在衬底上作为半导体层叠结构至少具有n型半导体层、由30层或30层以下的量子阱层形成的活性层、p型半导体层的发光二极管中,在半导体层叠结构的表面上形成平坦部分与多个孔。此时,做成:多个孔的表面占有率大于等于10%、小于等于85%,孔开口部的直径大于等于100nm、小于等于4000nm,孔的深度比活性层与平坦部分之间的距离还浅,多个孔的密度大于等于8×105个/cm2、小于等于1.08×1010个/cm2。
基本信息
专利标题 :
发光二极管及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1877874A
申请号 :
CN200510124341.0
公开(公告)日 :
2006-12-13
申请日 :
2005-11-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
藤仓序章中山智
申请人 :
日立电线株式会社
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 :
郝庆芬
优先权 :
CN200510124341.0
主分类号 :
H01L33/00
IPC分类号 :
H01L33/00
法律状态
2018-11-23 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01L 33/00
申请日 : 20051128
授权公告日 : 20081022
终止日期 : 20171128
申请日 : 20051128
授权公告日 : 20081022
终止日期 : 20171128
2016-08-10 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 株式会社赛奥科思
变更后权利人 : 住友化学株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本茨城县
变更后权利人 : 日本东京都
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101737184540
IPC(主分类) : H01L 33/00
专利号 : ZL2005101243410
登记生效日 : 20160722
变更前权利人 : 株式会社赛奥科思
变更后权利人 : 住友化学株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本茨城县
变更后权利人 : 日本东京都
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101737184540
IPC(主分类) : H01L 33/00
专利号 : ZL2005101243410
登记生效日 : 20160722
2015-10-28 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101722296567
IPC(主分类) : H01L 33/00
专利号 : ZL2005101243410
登记生效日 : 20150923
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 日立金属株式会社
变更后权利人 : 株式会社赛奥科思
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京都
变更后权利人 : 日本茨城县
号牌文件序号 : 101722296567
IPC(主分类) : H01L 33/00
专利号 : ZL2005101243410
登记生效日 : 20150923
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 日立金属株式会社
变更后权利人 : 株式会社赛奥科思
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京都
变更后权利人 : 日本茨城县
2015-01-07 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101709628156
IPC(主分类) : H01L 33/00
专利号 : ZL2005101243410
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 日立电线株式会社
变更后权利人 : 日立金属株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京都
变更后权利人 : 日本东京都
登记生效日 : 20141219
号牌文件序号 : 101709628156
IPC(主分类) : H01L 33/00
专利号 : ZL2005101243410
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 日立电线株式会社
变更后权利人 : 日立金属株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京都
变更后权利人 : 日本东京都
登记生效日 : 20141219
2008-10-22 :
授权
2007-02-14 :
实质审查的生效
2006-12-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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