发光二极管及其制造方法
专利权的终止
摘要
本发明提供把在分布布拉格反射器的近红外光的发光减少到可忽视的水平,进而降低在分布布拉格反射器的光的吸收率的高亮度发光二极管。为了达到该目的,通过对AlGaInP系发光二极管的分布布拉格反射器使用AlGaAs层和AlInP层的组合,并将其膜厚规定为下述(1)、(2)、(3)式的关系。(AlGaAs层的膜厚[nm])={λn1)}×α…(1),(AlInP层的膜厚[nm])={λ0/(4×n2)}×(2-α)…(2),λn1:对需要反射的光的波长的AlGaAs层的折射率,n2:对需要反射的光的波长的AlInP层的折射率,0.5<α<0.9…(3)。
基本信息
专利标题 :
发光二极管及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1825642A
申请号 :
CN200610001106.9
公开(公告)日 :
2006-08-30
申请日 :
2006-01-11
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
加古学谷毅彦今野泰一郎新井优洋
申请人 :
日立电线株式会社
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 :
钟晶
优先权 :
CN200610001106.9
主分类号 :
H01L33/00
IPC分类号 :
H01L33/00
法律状态
2018-12-28 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01L 33/00
申请日 : 20060111
授权公告日 : 20090304
终止日期 : 20180111
申请日 : 20060111
授权公告日 : 20090304
终止日期 : 20180111
2016-03-30 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101730229507
IPC(主分类) : H01L 33/00
专利号 : ZL2006100011069
登记生效日 : 20160311
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 株式会社赛奥科思
变更后权利人 : 住友化学株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本茨城县
变更后权利人 : 日本东京都
号牌文件序号 : 101730229507
IPC(主分类) : H01L 33/00
专利号 : ZL2006100011069
登记生效日 : 20160311
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 株式会社赛奥科思
变更后权利人 : 住友化学株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本茨城县
变更后权利人 : 日本东京都
2015-09-02 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101720164730
IPC(主分类) : H01L 33/00
专利号 : ZL2006100011069
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 日立金属株式会社
变更后权利人 : 株式会社赛奥科思
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京都
变更后权利人 : 日本茨城县
登记生效日 : 20150812
号牌文件序号 : 101720164730
IPC(主分类) : H01L 33/00
专利号 : ZL2006100011069
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 日立金属株式会社
变更后权利人 : 株式会社赛奥科思
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京都
变更后权利人 : 日本茨城县
登记生效日 : 20150812
2015-01-07 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101709600248
IPC(主分类) : H01L 33/00
专利号 : ZL2006100011069
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 日立电线株式会社
变更后权利人 : 日立金属株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京都
变更后权利人 : 日本东京都
登记生效日 : 20141219
号牌文件序号 : 101709600248
IPC(主分类) : H01L 33/00
专利号 : ZL2006100011069
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 日立电线株式会社
变更后权利人 : 日立金属株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京都
变更后权利人 : 日本东京都
登记生效日 : 20141219
2009-03-04 :
授权
2006-10-25 :
实质审查的生效
2006-08-30 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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