用于纳米印刷光刻技术的气动方法和装置
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种用于纳米光刻技术的方法(和装置)，包括向半硬掩模或模板的表面和光致抗蚀剂覆盖的工件的部分表面中的至少一个施加气动压力，和通过施加气动压力，将图案从掩模转印到工件上。
基本信息
专利标题 ：
用于纳米印刷光刻技术的气动方法和装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1776527A
申请号 ：
CN200510124657.X
公开（公告）日 ：
2006-05-24
申请日 ：
2005-11-14
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
马修·E.·科尔博恩伊夫·C.·马丁西奥多·G.·范·克赛尔荷玛萨·K.·维克拉玛辛赫
申请人 ：
国际商业机器公司
申请人地址 ：
美国纽约
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
张浩
优先权 ：
CN200510124657.X
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 G03F1/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2009-11-18 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-07-19 ：
实质审查的生效
2006-05-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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