分离式栅极快闪存储单元及其形成方法
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摘要

一种分离式栅极快闪存储单元包括:一半导体衬底;第一绝缘层,置于该半导体衬底上;一浮动栅极,置于该第一绝缘层上,其中该浮动栅极具有第一宽度;第二绝缘层,置于该浮动栅极上;一控制栅极,置于该第二绝缘层上;一顶盖层,置于该控制栅极上,其中顶盖层、控制栅极以及第二绝缘层具有相同的第二宽度,其中该第二宽度小于该第一宽度;第三绝缘层,置于该控制栅极、该第二绝缘层、该浮动栅极、该第一绝缘层的侧壁、以及该半导体衬底上;以及一抹除栅极,置于该第三绝缘层上。由于浮动栅极形成一突出于控制栅极底部的突出部轮廓,藉此突出部轮廓增加的面积改变电荷分布以形成一尖端放电场,因此可增进浮动栅极至抹除栅极间的抹除效率。

基本信息
专利标题 :
分离式栅极快闪存储单元及其形成方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1967811A
申请号 :
CN200510125448.7
公开(公告)日 :
2007-05-23
申请日 :
2005-11-17
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
傅景鸿廖宏魁卢建中
申请人 :
茂德科技股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾新竹科学工业园
代理机构 :
北京市柳沈律师事务所
代理人 :
陶凤波
优先权 :
CN200510125448.7
主分类号 :
H01L21/8247
IPC分类号 :
H01L21/8247  H01L27/115  
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法律状态
2009-09-02 :
授权
2007-07-18 :
实质审查的生效
2007-05-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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