应用纳米压印和反应离子刻蚀技术制备纳米悬臂结构的方法

专利权的终止

摘要

一种应用纳米压印和反应离子刻蚀技术制备纳米悬臂结构的方法，其特征在于它包括以下三个步骤：(1)应用刻蚀技术制备纳米压印模板；(2)应用纳米压印技术复制悬臂图形；(3)应用各向同性反应离子刻蚀技术悬空悬臂结构。本发明的优越性在于：1.通过制备模板，以纳米压印技术实现图形的复制与转移，具有工艺简单、速度快、重复性好、费用低、产率高等优点；2.应用各向同性干法反应离子刻蚀技术悬空悬臂结构，避免了湿法化学腐蚀工艺中悬臂与基底的粘结及溶液对结构的污染现象。

基本信息

专利标题：

应用纳米压印和反应离子刻蚀技术制备纳米悬臂结构的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1807222A

申请号：

CN200510133649.1

公开（公告）日：

2006-07-26

申请日：

2005-12-27

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

谢国勇章国明刘忠范张锦

申请人：

北京大学;国家纳米技术产业化基地

申请人地址：

100871北京市海淀区颐和园路5号

代理机构：

国嘉律师事务所

代理人：

卢枫

优先权：

CN200510133649.1

主分类号：

B81C1/00

IPC分类号：

B81C1/00 B82B3/00