波纹缺陷检查方法和系统及光掩模的制造方法

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

波纹缺陷检查方法和系统及光掩模的制造方法。本发明的课题是提供可以有效地且高精度地进行波纹缺陷检查的波纹缺陷检查方法。作为解决手段，波纹缺陷检查方法，检查在具有规律地排列了多个单位图形的重复图形的光掩模(50)的上述重复图形中产生的波纹缺陷，在利用图形信息获取装置(20)的摄像机(21)拍摄到的光掩模的整体图像中，指定具有成为波纹缺陷检查的对象的重复图形的区域作为检查区域，从该检查区域中的重复图形的利用显微镜(22)拍摄到的图像中获取相关重复图形的图形信息，根据该图形信息确定通过波纹缺陷检查装置(10)进行波纹缺陷检查的检查条件，由上述波纹缺陷检查装置根据该检查条件实施波纹缺陷检查。

基本信息

专利标题：

波纹缺陷检查方法和系统及光掩模的制造方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1983023A

申请号：

CN200510134657.8

公开（公告）日：

2007-06-20

申请日：

2005-12-13

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

吉田辉昭

申请人：

HOYA株式会社

申请人地址：

日本东京

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司

代理人：

黄纶伟

优先权：

CN200510134657.8

主分类号：

G03F1/00

IPC分类号：

G03F1/00 G03F7/20