不均缺陷检查装置和方法及光掩模的制造方法
专利权的终止
摘要
提供一种可以高精度地检测不均缺陷的不均缺陷检查装置。一种不均缺陷检查装置(10)，具有：光源(12)，其针对规律地排列了单位图形而构成的重复图形，向在透明基板(52)的表面(52A)所具有的光掩模(50)照射光；受光器(13)，其接受来自光掩模的反射光作为受光数据，分析装置(14)分析该受光数据以检测在上述重复图形中产生的不均缺陷，上述光源(12)向光掩模的透明基板的背面(52B)侧照射光。
基本信息
专利标题 ：
不均缺陷检查装置和方法及光掩模的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1786698A
申请号 ：
CN200510127461.6
公开（公告）日 ：
2006-06-14
申请日 ：
2005-12-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
田中淳一
申请人 ：
HOYA株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
李辉
优先权 ：
CN200510127461.6
主分类号 ：
G01N21/95
IPC分类号 ：
G01N21/95 G03F1/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N21/00
利用光学手段，即利用亚毫米波、红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料
G01N21/84
专用于特殊应用的系统
G01N21/88
测试瑕疵、缺陷或污点的存在
G01N21/95
特征在于待测物品的材料或形状
法律状态
2015-01-21 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101596338286
IPC(主分类) : H01L 21/66
专利号 : ZL2005101274616
申请日 : 20051206
授权公告日 : 20090121
终止日期 : 20131206
号牌文件序号 : 101596338286
IPC(主分类) : H01L 21/66
专利号 : ZL2005101274616
申请日 : 20051206
授权公告日 : 20090121
终止日期 : 20131206
2009-01-21 ：
授权
2006-08-09 ：
实质审查的生效
2006-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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