一种掩模缺陷检测系统
实质审查的生效
摘要
本公开涉及一种掩模缺陷检测系统,包括:真空腔体和隔振平台,所述真空腔体位于所述隔振平台上方,还包括:激光器,用于作为系统光源产生激光;光束整形系统,用于对所述激光进行光束整形;退相干反射镜,用于实现对所述激光的退相干;光瞳转换轮,用于光瞳选择;波带片,用于对掩模上的缺陷进行成像,法兰,用于实现腔体之间的密封连接;四爪狭缝,用于对照明光斑的尺寸进行微调;所述退相干反射镜、所述光瞳转换轮以及所述波带片位于所述真空腔体内;所述激光器产生的激光依次经过所述光束整形系统、所述法兰及四爪狭缝、所述退相干反射镜和所述光瞳转换轮,照射到掩模上进行掩模缺陷检测。
基本信息
专利标题 :
一种掩模缺陷检测系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114442423A
申请号 :
CN202210009610.2
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2022-01-05
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
沙鹏飞吴晓斌王魁波马翔宇尹皓玉方旭晨谢婉露韩晓泉李慧罗艳马赫谭芳蕊
申请人 :
中国科学院微电子研究所
申请人地址 :
北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 :
北京辰权知识产权代理有限公司
代理人 :
谷波
优先权 :
CN202210009610.2
主分类号 :
G03F1/84
IPC分类号 :
G03F1/84
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/68
未包含在G03F1/20至G03F1/50组中的制备工艺
G03F1/82
辅助工艺,例如清洗
G03F1/84
检查
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 1/84
申请日 : 20220105
申请日 : 20220105
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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