用于浸渍光刻的聚合物、含有它的光致抗蚀剂组合物、制备半导...
专利权的终止
摘要
一种包含由式1所示重复单元的用于浸渍光刻的聚合物，及含有该聚合物的光致抗蚀剂组合物。由本发明的光致抗蚀剂组合物形成的光致抗蚀剂薄膜是高度抗溶解的，即防止光酸发生剂溶解于浸渍光刻的水溶液中，从而防止曝光导致的曝光透镜污染和光致抗蚀剂图案的变形。
基本信息
专利标题 ：
用于浸渍光刻的聚合物、含有它的光致抗蚀剂组合物、制备半导体器件的方法及半导体器件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1873532A
申请号 ：
CN200510136300.3
公开（公告）日 ：
2006-12-06
申请日 ：
2005-12-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
郑载昌卜喆圭林昌文文承灿
申请人 ：
海力士半导体有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
张平元
优先权 ：
CN200510136300.3
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G03F7/20 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2015-02-18 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101599312538
IPC(主分类) : G03F 7/004
专利号 : ZL2005101363003
申请日 : 20051227
授权公告日 : 20100217
终止日期 : 20131227
号牌文件序号 : 101599312538
IPC(主分类) : G03F 7/004
专利号 : ZL2005101363003
申请日 : 20051227
授权公告日 : 20100217
终止日期 : 20131227
2010-02-17 ：
授权
2007-01-31 ：
实质审查的生效
2006-12-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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