一种光掩膜图形位置的检测方法

专利权的终止

摘要

一种光掩膜图形位置的检测方法包括：汇总光掩膜版图中的各个填入图形面积，并作为参考总面积；将光掩膜版图中各个填入图形位置与大小输入制图软件中形成填入图形模块版图；将填入图形模块版图输入图形处理软件中计算填入图形模块区域面积，比较所述参考总面积与所述填入图形模块区域面积是否一致；如果比较结果为否，则修正光掩膜版图设计，并重新上述步骤；如果比较结果为是，则结束检测。本发明充分利用电脑以及现有的软硬件资源，通过电脑对数据、图形进行处理，提高了检测效率和检测准确率。

基本信息

专利标题：

一种光掩膜图形位置的检测方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101042537A

申请号：

CN200610024959.4

公开（公告）日：

2007-09-26

申请日：

2006-03-22

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

李峥胡振宇

申请人：

中芯国际集成电路制造（上海）有限公司

申请人地址：

201203上海市浦东新区张江路18号

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

逯长明

优先权：

CN200610024959.4

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 G03F1/00 H01L21/027

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2020-03-10 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 9/00
申请日 : 20060322
授权公告日 : 20090610
终止日期 : 20190322

2011-12-14 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101238306816
IPC(主分类) : G03F 9/00
专利号 : ZL2006100249594
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
变更后权利人 : 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 201203 上海市浦东新区张江路18号
变更后权利人 : 201203 上海市浦东新区张江路18号
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 无
变更后权利人 : 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
登记生效日 : 20111108

2009-06-10 ：

授权

2007-11-21 ：

实质审查的生效

2007-09-26 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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