具基板清洁装置的光学制作工艺设备及其制作工艺方法
专利权的终止
摘要
一种基板清洁装置、包括此基板清洁装置的光学制作工艺设备以及使用此光学制作工艺设备的光学制作工艺方法。光学制作工艺设备主要包括基板清洁装置、光学制作工艺机台及材料涂布装置。光学制作工艺机台具有基板座，材料涂布装置优选设置在基板座的上方，且可相对于基板座移动。基板清洁装置主要包括出气装置及气体供应装置。出气装置是设置对应于材料涂布装置的前导端，气体供应装置与出气装置连接，并提供气体至出气装置。在材料涂布装置涂布基板座上的基板或薄膜前，基板清洁装置喷出气体至基板或薄膜上，以清洁其上的灰尘或其他影响成品品质的粒子。
基本信息
专利标题 ：
具基板清洁装置的光学制作工艺设备及其制作工艺方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1814360A
申请号 ：
CN200610051494.1
公开（公告）日 ：
2006-08-09
申请日 ：
2006-02-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李丰仲李文杉
申请人 ：
友达光电股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹市
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
魏晓刚
优先权 ：
CN200610051494.1
主分类号 ：
B08B5/02
IPC分类号 ：
B08B5/02 G03F7/16 H01L21/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B5/00
利用空气流动或气体流动的清洁方法
B08B5/02
用喷气力来清洁，如吹清凹处
法律状态
2022-02-22 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : B08B 5/02
申请日 : 20060228
授权公告日 : 20100512
终止日期 : 20210228
申请日 : 20060228
授权公告日 : 20100512
终止日期 : 20210228
2010-05-12 ：
授权
2006-10-04 ：
实质审查的生效
2006-08-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
