光掩模及其制造方法、电子仪器的制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明的光掩模的制造方法，其中具备：喷出工序，使用液滴喷出法，向基板上的规定位置喷出含有遮光性材料的液体之液滴；和干燥工序，使所述液体干燥，在所述基板上形成由所述遮光性材料构成的遮光图案。
基本信息
专利标题 ：
光掩模及其制造方法、电子仪器的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1831642A
申请号 ：
CN200610051594.4
公开（公告）日 ：
2006-09-13
申请日 ：
2006-03-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
三浦弘纲
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
汪惠民
优先权 ：
CN200610051594.4
主分类号 ：
G03F1/00
IPC分类号 ：
G03F1/00 G03F1/08 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
法律状态
2011-01-26 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101063320425
IPC(主分类) : G03F 1/00
专利申请号 : 2006100515944
公开日 : 20060913
号牌文件序号 : 101063320425
IPC(主分类) : G03F 1/00
专利申请号 : 2006100515944
公开日 : 20060913
2006-11-08 ：
实质审查的生效
2006-09-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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