半导体装置及其制造方法
专利权的终止
摘要
本发明提供一种能够实现高集成度的半导体装置及其制造方法。根据本发明一个实施例的多芯片模块包括:具有第一焊盘的第一半导体芯片;具有第二焊盘的第二半导体芯片,所述第二焊盘比第一焊盘更薄;以及与所述第一焊盘和第二焊盘中的每一个相连的焊线,所述第一焊盘与所述焊线的第一焊接侧端部相连,所述第二焊盘与所述焊线的第二焊接侧端部相连。
基本信息
专利标题 :
半导体装置及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1835231A
申请号 :
CN200610071715.1
公开(公告)日 :
2006-09-20
申请日 :
2006-03-16
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
太田充
申请人 :
恩益禧电子股份有限公司
申请人地址 :
日本神奈川
代理机构 :
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 :
梁晓广
优先权 :
CN200610071715.1
主分类号 :
H01L25/00
IPC分类号 :
H01L25/00 H01L25/065 H01L21/60 H01L21/98
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L25/00
由多个单个半导体或其他固态器件组成的组装件
法律状态
2020-03-10 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01L 25/00
申请日 : 20060316
授权公告日 : 20090225
终止日期 : 20190316
申请日 : 20060316
授权公告日 : 20090225
终止日期 : 20190316
2017-12-15 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : H01L 25/00
变更事项 : 专利权人
变更前 : 瑞萨电子株式会社
变更后 : 瑞萨电子株式会社
变更事项 : 地址
变更前 : 日本神奈川
变更后 : 日本东京
变更事项 : 专利权人
变更前 : 瑞萨电子株式会社
变更后 : 瑞萨电子株式会社
变更事项 : 地址
变更前 : 日本神奈川
变更后 : 日本东京
2010-12-22 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101055189970
IPC(主分类) : H01L 25/00
专利号 : ZL2006100717151
变更事项 : 专利权人
变更前 : 恩益禧电子股份有限公司
变更后 : 瑞萨电子株式会社
变更事项 : 地址
变更前 : 日本神奈川
变更后 : 日本神奈川
号牌文件序号 : 101055189970
IPC(主分类) : H01L 25/00
专利号 : ZL2006100717151
变更事项 : 专利权人
变更前 : 恩益禧电子股份有限公司
变更后 : 瑞萨电子株式会社
变更事项 : 地址
变更前 : 日本神奈川
变更后 : 日本神奈川
2009-02-25 :
授权
2006-11-22 :
实质审查的生效
2006-09-20 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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