一种可抑制化学气相沉积预反应的进气蓬头
专利权的终止
摘要

本实用新型公开了一种可抑制化学气相沉积预反应的进气蓬头,包括一本体,所述本体上设置有喷气口,本体边缘处设有冷却水入口和出水口,其特征在于:所述本体内设有冷却水容腔,本体底面均布有至少4条径向设置的由复数个喷气口组成的气道,对应于每一气道上方设有一个覆盖喷气口的罩体,对应每一罩体在本体顶面设有入气口,入气口经进气管连通至罩体与气道间的空腔内,构成入气通道;所述本体顶面对应于冷却水入口与出口分别设有与冷却水容腔连通的进水管及出水管,构成冷却水通道。本实用新型通过各自独立的进气通道及对入气口起冷却作用的冷却水通道,实现对原料气预反应的抑制,从而提高薄膜的质量。

基本信息
专利标题 :
一种可抑制化学气相沉积预反应的进气蓬头
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720033763.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-01-23
授权号 :
CN200996045Y
授权日 :
2007-12-26
发明人 :
王怀兵朱建军杨辉
申请人 :
苏州纳米技术与纳米仿生研究所
申请人地址 :
215123江苏省苏州市苏州工业园区仁爱路150号南大苏州研究生院B-513
代理机构 :
苏州创元专利商标事务所有限公司
代理人 :
陶海锋
优先权 :
CN200720033763.1
主分类号 :
C23C16/455
IPC分类号 :
C23C16/455  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2015-03-25 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101602178704
IPC(主分类) : C23C 16/455
专利号 : ZL2007200337631
申请日 : 20070123
授权公告日 : 20071226
终止日期 : 20140123
2010-10-27 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101034189159
IPC(主分类) : C23C 16/455
专利号 : ZL2007200337631
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 苏州纳米技术与纳米仿生研究所
变更后权利人 : 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 215123 江苏省苏州市苏州工业园区仁爱路150号南大苏州研究生院B-513
变更后权利人 : 215123 江苏省苏州市苏州工业园区若水路398号
登记生效日 : 20100910
2007-12-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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