一种化学气相沉积炉进气改进机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种化学气相沉积炉进气改进机构，属于化学气相沉积领域，包括炉体和设于所述炉体底部的进气装置，所述炉体内部设有炉腔，所述进气装置包括通气管，所述通气管自上而下环绕炉腔外侧设置，所述炉腔外侧沿通气管长度方向均匀设置有通孔，所述通气管上相应设置有贯通通孔的支管，所述支管连通炉腔和通气管，所述支管与通孔密封设置。本实用新型它不仅结构简单，设计合理，而且能够炉腔内部高度方向各处进气量相同，能够改善产品沉积效果，提高生产效率。
基本信息
专利标题 ：
一种化学气相沉积炉进气改进机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020664196.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-27
授权号 ：
CN212051639U
授权日 ：
2020-12-01
发明人 ：
余斌余海粟朱轶方陆骁莹
申请人 ：
杭州超然金刚石有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市萧山区经济技术开发区鸿兴路158号2号楼2-117
代理机构 ：
杭州信义达专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
陈继算
优先权 ：
CN202020664196.5
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2020-12-01 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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