直拉硅单晶制备用坩埚
专利权的终止
摘要
本实用新型提供了直拉硅单晶制备用坩埚,它用在一种名为切克劳斯基(或称直拉)法制造硅单晶生长的方法中,本坩埚支撑装有多晶硅料的石英埚。它包括:坩埚上部、与下轴连接的埚底,所述的坩埚上部为一加强圈,它支撑在埚底的凸台上,该凸台位于石英坩埚转弯的下方。本实用新型的优点是:该坩埚重量轻、易安装,它的使用寿命与原有结构的坩埚相当。
基本信息
专利标题 :
直拉硅单晶制备用坩埚
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720173441.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-09-28
授权号 :
CN201089804Y
授权日 :
2008-07-23
发明人 :
张果虎周旗钢戴小林姜舰
申请人 :
北京有色金属研究总院;有研半导体材料股份有限公司
申请人地址 :
100088北京市新街口外大街2号
代理机构 :
北京北新智诚知识产权代理有限公司
代理人 :
郭佩兰
优先权 :
CN200720173441.7
主分类号 :
C30B15/10
IPC分类号 :
C30B15/10 F27B14/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B15/00
熔融液提拉法的单晶生长,例如Czochralski法
C30B15/10
承载熔融液的坩埚或容器
法律状态
2017-10-31 :
专利权的终止
专利权有效期届满IPC(主分类) : C30B 15/10
申请日 : 20070928
授权公告日 : 20080723
申请日 : 20070928
授权公告日 : 20080723
2015-07-01 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101717155858
IPC(主分类) : C30B 15/10
专利号 : ZL2007201734417
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 有研新材料股份有限公司
变更后权利人 : 有研半导体材料有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100088 北京市新街口外大街2号
变更后权利人 : 101300 北京市顺义区林河工业开发区双河路南侧
登记生效日 : 20150611
号牌文件序号 : 101717155858
IPC(主分类) : C30B 15/10
专利号 : ZL2007201734417
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 有研新材料股份有限公司
变更后权利人 : 有研半导体材料有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100088 北京市新街口外大街2号
变更后权利人 : 101300 北京市顺义区林河工业开发区双河路南侧
登记生效日 : 20150611
2014-06-25 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101702231872
IPC(主分类) : C30B 15/10
专利号 : ZL2007201734417
变更事项 : 专利权人
变更前 : 有研半导体材料股份有限公司
变更后 : 有研新材料股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 100088 北京市新街口外大街2号
变更后 : 100088 北京市新街口外大街2号
号牌文件序号 : 101702231872
IPC(主分类) : C30B 15/10
专利号 : ZL2007201734417
变更事项 : 专利权人
变更前 : 有研半导体材料股份有限公司
变更后 : 有研新材料股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 100088 北京市新街口外大街2号
变更后 : 100088 北京市新街口外大街2号
2012-03-14 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101298124011
IPC(主分类) : C30B 15/10
专利号 : ZL2007201734417
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 北京有色金属研究总院
变更后权利人 : 有研半导体材料股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100088 北京市新街口外大街2号
变更后权利人 : 100088 北京市新街口外大街2号
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 有研半导体材料股份有限公司
变更后权利人 : 无
登记生效日 : 20120131
号牌文件序号 : 101298124011
IPC(主分类) : C30B 15/10
专利号 : ZL2007201734417
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 北京有色金属研究总院
变更后权利人 : 有研半导体材料股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100088 北京市新街口外大街2号
变更后权利人 : 100088 北京市新街口外大街2号
变更事项 : 共同专利权人
变更前权利人 : 有研半导体材料股份有限公司
变更后权利人 : 无
登记生效日 : 20120131
2008-07-23 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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