直拉法生长掺镓硅单晶的装置
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及一种直拉法生长掺镓硅单晶的装置。它包括单晶炉、加热器、导流筒、石英坩埚、石墨坩埚、保温盖、保温筒、托盘、固化保温碳毡、固化炉底护盘和排气孔。加热器外围处安装石墨保温筒,保温筒外面安装固化保温碳毡;石墨保温筒上沿也被石墨上托盘的下子口定位,导流筒上沿由在石墨上托盘的上子口定位,上保温盖由石墨上托盘的上面外子口定位。石墨埚杆支撑石墨坩埚,石英坩埚座落在石墨坩埚内,石英坩埚上沿高出石墨坩埚上沿。本实用新型使热场系统内充满氩气,结构简单合理,能提高硅单晶质量,可得到掺镓硅单晶纵向电阻率完全符合要求的大直径低位错密度的掺镓硅单晶,能满足高效太阳能电池衬底材料的要求,有广泛的应用价值。

基本信息
专利标题 :
直拉法生长掺镓硅单晶的装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720096818.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-07-19
授权号 :
CN201058893Y
授权日 :
2008-05-14
发明人 :
任丙彦任丽
申请人 :
任丙彦
申请人地址 :
300130天津市红桥区丁字沽一号路八号河北工业大学材料学院信息功能材料研究所
代理机构 :
天津市杰盈专利代理有限公司
代理人 :
赵敬
优先权 :
CN200720096818.3
主分类号 :
C30B29/06
IPC分类号 :
C30B29/06  C30B15/00  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B29/00
以材料或形状为特征的单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B29/02
元素
C30B29/06
法律状态
2017-09-01 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101745177069
IPC(主分类) : C30B 29/06
专利号 : ZL2007200968183
申请日 : 20070719
授权公告日 : 20080514
终止日期 : 20160719
2008-05-14 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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