硅单晶生长用勾形磁场装置
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摘要

本实用新型提供了一种硅单晶生长用勾形磁场装置,该装置包括:两个并列设置的线圈组件,每个线圈组件均包括多个单盘线圈,同一线圈组件内的多个单盘线圈相串联,每个单盘线圈均由至少三根铜管绕制而成,同一单盘线圈内的各铜管相串联;两个直流源,两个直流源分别与两个线圈组件相连接,以分别向两个线圈组件通入大小相等、方向相反的直流电流;绝缘栅双极型晶体管模块,绝缘栅双极型晶体管模块与两个直流源相连接,以控制两个直流源向两个线圈组件通入的直流电流为恒流。两个线圈组件通电后形成的磁场可从三维方向上有效地抑制热对流、单晶棒和坩埚相对旋转产生的强迫对流,且磁场稳定性高,可使得单晶的质量进一步提高。

基本信息
专利标题 :
硅单晶生长用勾形磁场装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020168794.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-02-13
授权号 :
CN211972497U
授权日 :
2020-11-20
发明人 :
张承臣李恒盛赵威曹野刘博
申请人 :
沈阳隆基电磁科技股份有限公司
申请人地址 :
辽宁省抚顺市经济开发区文华路6号
代理机构 :
北京工信联合知识产权代理有限公司
代理人 :
白晓晰
优先权 :
CN202020168794.3
主分类号 :
C30B30/04
IPC分类号 :
C30B30/04  C30B29/06  C30B15/00  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B30/00
利用电场、磁场、波能或其他特定物理条件的作用为特征来制备单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B30/04
用磁场的
法律状态
2020-11-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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