用于制备飞机碳刹车盘的化学气相沉积炉
专利权的终止
摘要

用于制备飞机碳刹车盘的化学气相沉积炉,涉及一种飞机碳刹车盘的制备方法,特别是外热式定向流动化学气相沉积(CVD)制备飞机碳刹车盘的方法,包括一环状保温层,在保温层的上端设置保温盖,保温层的内壁设置具有发热腔的发热体,在保温层下端设置下托板,在下托板上方的发热腔中设置石墨下盖板,在石墨下盖板上方布置石墨上盖板,在石墨上盖板和保温盖的中心分别开设通孔,在两个通孔之间密封连接一石墨管,通过本实用新型可制成密度在1.80g/cm3以上的飞机碳刹车盘。

基本信息
专利标题 :
用于制备飞机碳刹车盘的化学气相沉积炉
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820038476.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-07-17
授权号 :
CN201224760Y
授权日 :
2009-04-22
发明人 :
居小平孙文革邓昕
申请人 :
居小平;孙文革;邓昕
申请人地址 :
225200江苏省江都市江淮路188号扬州中惠集团公司
代理机构 :
扬州市锦江专利事务所
代理人 :
江 平
优先权 :
CN200820038476.4
主分类号 :
C23C16/26
IPC分类号 :
C23C16/26  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/22
以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C16/26
仅沉积碳
法律状态
2015-09-02 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101624006715
IPC(主分类) : C23C 16/26
专利号 : ZL2008200384764
申请日 : 20080717
授权公告日 : 20090422
终止日期 : 20140717
2009-04-22 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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