一种化学气相沉积装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种化学气相沉积装置，包括反应腔体、阴极、阳极、电源、反应衬底、机械泵、加热装置和冷却装置；本申请还提供了利用化学气相沉积装置进行化学气相沉积的方法。本实用新型在化学气相沉积反应中直接采用直流辉光引入等离子体，一方面可以大幅提高化学气相沉积的效率，降低反应温度，降低成本，提高品质等；另一方面利用直流辉光产生等离子体既直接作用于反应区域，成本又低。因此本实用新型不仅适合于研究化学气相反应的机制，也适用于大规模生产，特别是石墨烯的生产。
基本信息
专利标题 ：
一种化学气相沉积装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020609104.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-20
授权号 ：
CN213624376U
授权日 ：
2021-07-06
发明人 ：
祝巍马萍萍
申请人 ：
中国科学技术大学
申请人地址 ：
安徽省合肥市包河区金寨路96号
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
李伟
优先权 ：
CN202020609104.3
主分类号 ：
C23C16/503
IPC分类号 ：
C23C16/503 C23C16/26 C23C16/30 C23C16/28
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
C23C16/503
采用直流或交流放电
法律状态
2021-07-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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