硬掩模用组合物
授权
摘要
本发明提供一种硬掩模用组合物，其通过包含含有选自由特定化学式组成的组中的至少一种重复单元的聚合物和溶剂，从而能够形成具有优异的耐热性、高温耐热性及涂覆均匀性的抗蚀剂下层膜(硬掩模)。更详细而言，所述聚合物包含选自由下述化学式1‑1和化学式1‑2组成的组中的至少一种重复单元，下述化学式1‑1中，Ar1及Ar2各自独立地为碳原子数6～20的芳香族烃基，或者Ar1为氢原子且Ar2为碳原子数1～25的烃基，Ar1和Ar2可彼此连结而形成5～7元环，n为1～3的整数；下述化学式1‑2中，Ar3为4～20的亚芳基。
基本信息
专利标题 ：
硬掩模用组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN107340688A
申请号 ：
CN201710233535.7
公开（公告）日 ：
2017-11-10
申请日 ：
2017-04-11
授权号 ：
CN107340688B
授权日 ：
2022-05-06
发明人 ：
崔汉永梁敦植金相泰成始震
申请人 ：
东友精细化工有限公司
申请人地址 ：
韩国全罗北道
代理机构 ：
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 ：
金鲜英
优先权 ：
CN201710233535.7
主分类号 ：
G03F7/11
IPC分类号 ：
G03F7/11
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层
G03F7/11
具有覆盖层或中间层的，例如，胶层
法律状态
2022-05-06 ：
授权
2019-03-08 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/11
申请日 : 20170411
申请日 : 20170411
2017-11-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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