化学气相沉积设备和利用其制造显示设备的方法
授权
摘要
提供了一种化学气相沉积设备和利用其制造显示设备的方法。所述化学气相沉积设备包括室、支撑基底的基座、施加有电力的背板、提供沉积气体的扩散器和第一绝缘体。第一绝缘体可以包括第一部分和第二部分，所述第一部分覆盖背板的顶表面，所述第二部分与第一部分组装在一起并覆盖背板的侧壁。
基本信息
专利标题 ：
化学气相沉积设备和利用其制造显示设备的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109234708A
申请号 ：
CN201810650227.9
公开（公告）日 ：
2019-01-18
申请日 ：
2018-06-22
授权号 ：
CN109234708B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
朴钟勋郑石源朱儇佑崔宰赫闵庚柱朴元雄
申请人 ：
三星显示有限公司
申请人地址 ：
韩国京畿道龙仁市
代理机构 ：
北京铭硕知识产权代理有限公司
代理人 ：
王慧敏
优先权 ：
CN201810650227.9
主分类号 ：
C23C16/513
IPC分类号 ：
C23C16/513 C23C16/458 C23C16/46 H01L51/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
C23C16/513
采用等离子流
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2020-07-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/513
申请日 : 20180622
申请日 : 20180622
2019-01-18 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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