反馈系统
授权
摘要
一种用于控制通过真空涂覆工艺被施覆在基板(10)上的一单层或多层堆叠的特性的反馈系统(210)，所述真空涂覆工艺由多个处理控制装置来控制，包含：至少一个监控设备(220)，所述至少一个监控设备用于实施用以确定在空间上分布于涂覆的基板(11)上的多个位置中的每一个处的测量信号的至少二个不同的测量技术，由此第一测量技术适于被同时地施用至多个位置，并且第二测量技术适于被施用到至少一个位置，所述第一测量技术和所述第二测量技术中的一个是光谱透射测量，至少一个处理单元(230)，所述至少一个处理单元经调适以用于接收测量信号，并且被配置为用于从中确定在所述多个位置处的第一层特性的实际的数值，及在所述至少一个位置处的不同于所述第一层特性的第二层特性的实际的数值，和/或用于确定在实际的第一层特性数值和实际的第二层特性数值与
基本信息
专利标题 ：
反馈系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110651353A
申请号 ：
CN201880031848.7
公开（公告）日 ：
2020-01-03
申请日 ：
2018-05-17
授权号 ：
CN110651353B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
W·德博斯谢尔I·范德普特
申请人 ：
梭莱先进镀膜工业有限公司
申请人地址 ：
比利时丹泽
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
秦晨
优先权 ：
CN201880031848.7
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 C23C14/54 H01L21/66 H01L31/0224 H01L31/18
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2020-03-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/32
申请日 : 20180517
申请日 : 20180517
2020-01-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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