用于衬底的气体处理的反应器
实质审查的生效
摘要
本文披露了一种在用于衬底的气体处理的反应器中使用的气体入口装置(21，21a‑21k)。该气体入口装置包括：入口凹穴，该入口凹穴具有背壁(233)以及在下游方向(F)上从该背壁(233)朝向入口凹穴开口(212)延伸的侧壁(234，235)；撞击表面(243)；气体孔口(210)，该气体孔口被配置成将气流导向该撞击表面(243)；以及锥形表面(244，245)，该锥形表面在该撞击表面(243)下游延伸，使得在该侧壁(234，235)与该锥形表面(244，245)之间形成流动间隙(213)，该流动间隙沿着下游方向(F)具有逐渐增大的截面积。本文进一步披露了一种混合装置、一种气体出口装置、一种反应器以及这种反应器的用途。
基本信息
专利标题 ：
用于衬底的气体处理的反应器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114269964A
申请号 ：
CN201980098102.2
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2019-06-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
奥洛夫·科迪纳陈志泰马丁·埃里克松
申请人 ：
斯维甘公司
申请人地址 ：
瑞典林雪平
代理机构 ：
北京安信方达知识产权代理有限公司
代理人 ：
李健
优先权 ：
CN201980098102.2
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44 C23C16/54 C23C16/455 C30B25/14 B01F23/10 H01J37/32 C30B31/16
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2022-05-13 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/44
申请日 : 20190610
申请日 : 20190610
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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