一种大尺寸构件物理气相沉积喷嘴
专利申请权、专利权的转移
摘要
本实用新型公开了一种大尺寸构件物理气相沉积喷嘴，它由入口段（1）与喷嘴座（2）构成，喷嘴座（2）由分配层（3）、第一空腔（4）、分配板（5）、第二空腔（6）和出口段（7）组成，分配层（3）由多块隔板（8）构成，隔板（8）的一端汇聚在入口段（1）与喷嘴座（2）的连接处，隔板（8）的另一端向外发散；在分配板（5）上开有若干小孔（9），分配板（5）置于第一空腔（4）和第二空腔（6）之间；出口段（7）为长窄的狭缝。本实用新型可以达到沉积流体均匀化的效果，从而增加均匀镀膜成功率，减少工业耗材，在大尺寸构件真空镀膜的过程中可以起到均匀化及提高喷射效率的作用。
基本信息
专利标题 ：
一种大尺寸构件物理气相沉积喷嘴
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920413933.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-03-29
授权号 ：
CN209816258U
授权日 ：
2019-12-20
发明人 ：
李仕诚
申请人 ：
李仕诚
申请人地址 ：
上海市宝山区虎林路99弄42号301室
代理机构 ：
贵阳易博皓专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张浩宇
优先权 ：
CN201920413933.1
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2021-06-25 ：
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : C23C 14/22
登记生效日 : 20210616
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 李仕诚
变更后权利人 : 绍兴太步艾未塔智能科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 200431 上海市宝山区虎林路99弄42号301室
变更后权利人 : 311800 浙江省绍兴市诸暨市陶朱街道艮塔西路111号309
登记生效日 : 20210616
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 李仕诚
变更后权利人 : 绍兴太步艾未塔智能科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 200431 上海市宝山区虎林路99弄42号301室
变更后权利人 : 311800 浙江省绍兴市诸暨市陶朱街道艮塔西路111号309
2019-12-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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