一种蒸镀机构
授权
摘要
本实用新型提供一种蒸镀机构，包括磁板、固定支架、蒸镀坩埚单元、磁性薄膜和真空腔，磁板与竖直面设置有夹角，先在蒸镀的基板的背面上采用蒸镀的方式附上一层磁性薄膜，通过磁性薄膜可以与磁板通过磁吸的原理，将基板完全贴附与磁板上，避免基板发生弯曲的现象。而蒸镀坩埚单元则安装在固定支架上，因为固定支架与磁板相互平行，因此保证了磁板上的基板与固定支架之间的间距相同，进而通过蒸镀坩埚单元进行蒸镀时，可以提高基板蒸镀的质量，同时消除基板的弯曲的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种蒸镀机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920536734.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-19
授权号 ：
CN209957888U
授权日 ：
2020-01-17
发明人 ：
不公告发明人
申请人 ：
福建华佳彩有限公司
申请人地址 ：
福建省莆田市涵江区涵中西路1号
代理机构 ：
福州市景弘专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
徐剑兵
优先权 ：
CN201920536734.X
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-01-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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