一种蒸镀机构
授权
摘要
本实用新型提供一种蒸镀机构，包括坩埚和防尘装置，坩埚置于所述防尘装置上方，坩埚内部用于填充蒸镀材料，坩埚外壁包覆设置有加热装置，坩埚中部设置有多孔分散板，坩埚上部侧壁设置有供蒸镀材料蒸汽喷出的喷嘴，喷嘴与坩埚内部连通，所述喷嘴倾斜向下指向在防尘装置下方一侧的基板放置平台，基板放置平台的底面为平面，基板放置平台用于由上往下依次放置掩膜板和待蒸镀的基板。本方案采用基板在下，蒸镀机构在上的蒸镀方式，通过基板放置平台对基板整体支撑避免基板产生弯曲，从而避免弯曲对基板厚度和尺寸的限制；同时通过防尘装置可以有效防止颗粒掉落，从而防止掩膜板出现塞孔。
基本信息
专利标题 ：
一种蒸镀机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922106948.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-29
授权号 ：
CN211112181U
授权日 ：
2020-07-28
发明人 ：
乔小平
申请人 ：
福建华佳彩有限公司
申请人地址 ：
福建省莆田市涵江区涵中西路1号
代理机构 ：
福州市景弘专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
徐剑兵
优先权 ：
CN201922106948.6
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/12 C23C14/24 H01L51/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2020-07-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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