一种化学气相沉积生产石墨烯异质结的装置
授权
摘要
本实用新型属于化学气相沉积领域，具体公开了一种化学气相沉积生产石墨烯异质结的装置，包括：设置在竖直方向上的彼此相对的可升降的上加热器和可升降的下加热器；支撑架，固定设置在所述下加热器上；托盘，设置在所述支撑架远离所述下加热器的一侧，用于承载基板；悬浮催化剂装置，用于提供催化剂至所述基板正上方；所述支撑架的平行所述下加热器和所述托盘两者的横截面的尺寸从所述下加热器至所述托盘逐渐减小，且所述托盘用于承载基板的表面高于所述支撑架；所述支撑架可导电，所述基板通过所述托盘内嵌装的导电线电连接所述支撑架。本实用新型能够提高石墨烯异质结的质量保证。
基本信息
专利标题 ：
一种化学气相沉积生产石墨烯异质结的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920688380.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-05-14
授权号 ：
CN210314482U
授权日 ：
2020-04-14
发明人 ：
孔伟成赵勇杰
申请人 ：
合肥本源量子计算科技有限责任公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市合肥市高新区创业产业园二期E2栋6层
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920688380.0
主分类号 ：
C23C16/48
IPC分类号 ：
C23C16/48 C23C16/458 C23C16/26
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/48
辐射法，例如光分解、辐射分解、粒子辐射
法律状态
2020-04-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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