一种气相生长ZnTe单晶体的装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种气相生长ZnTe单晶体的装置及方法,该装置包括:加热炉,延轴向依次包括恒温区和线性降温区,所述加热炉具有贯通所述两个温区的炉腔;石英管,安置在所述加热炉的炉腔中且二者能够沿炉腔轴向相对移动;组合石英舟,由主舟、料舟和长晶套管组成。该装置具有第一工作状态和第二工作状态,在所述第一工作状态时,所述主舟与长晶套管分离,抽石英管内气压至10‑5Pa然后冲入氩气。在所述第二工作状态时,主舟与长晶套管由石英磨砂连接,主舟内形成密闭空间,加热料舟至目标温度,控制加热炉以一个与晶体生长速率相匹配的恒定速度沿炉腔轴向移动,从而使在长晶过程中ZnTe晶体的固气界面始终保持恒定的生长温场环境,实现ZnTe单晶的稳定生长。
基本信息
专利标题 :
一种气相生长ZnTe单晶体的装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920733278.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-05-21
授权号 :
CN210262080U
授权日 :
2020-04-07
发明人 :
郑律马可军俞振中门楠
申请人 :
浙江森尼克半导体有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市萧山区萧山经济技术开发区红垦农场红垦路83号
代理机构 :
杭州求是专利事务所有限公司
代理人 :
万尾甜
优先权 :
CN201920733278.8
主分类号 :
C30B29/48
IPC分类号 :
C30B29/48 C30B23/06
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B29/00
以材料或形状为特征的单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B29/10
无机化合物或组合物
C30B29/46
含硫、硒或碲的化合物
C30B29/48
AⅡBⅥ化合物
法律状态
2020-04-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载