一种用于n型低阻砷化镓单晶生长的设备
授权
摘要

本实用新型公开了一种用于n型低阻砷化镓单晶生长的设备,包括形状相适配的石墨坩埚和热解氮化硼坩埚,所述热解氮化硼坩埚嵌套在所述石墨坩埚的内部,所述石墨坩埚和所述热解氮化硼坩埚的下端设置有籽晶嵌头,所述籽晶嵌头的内部开设有用于放置籽晶的通槽,且所述籽晶的底端设置有籽晶防护底座;所述热解氮化硼坩埚的内部设置有砷化镓原料,所述砷化镓原料内设置有若干个上端开口的用于放置掺杂剂的放置插槽,通过在籽晶的端部设置籽晶防护底座,可以在放置籽晶过程中,避免籽晶与外部直接发生碰撞,从而对籽晶进行良好的防护,进料槽配合密封插管方便对掺杂剂的添加,且便于后续对掺杂剂添加量进行更改。

基本信息
专利标题 :
一种用于n型低阻砷化镓单晶生长的设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920807112.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-05-31
授权号 :
CN210215619U
授权日 :
2020-03-31
发明人 :
代晓波
申请人 :
独山中科晶元信息材料有限公司
申请人地址 :
贵州省黔南布依族苗族自治州独山县麻万镇麻抹组独山中科晶元
代理机构 :
北京轻创知识产权代理有限公司
代理人 :
谈杰
优先权 :
CN201920807112.6
主分类号 :
C30B29/42
IPC分类号 :
C30B29/42  C30B11/04  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B29/00
以材料或形状为特征的单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B29/10
无机化合物或组合物
C30B29/40
AⅢBv化合物
C30B29/42
砷化镓
法律状态
2020-03-31 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332