等离子体清洁装置
授权
摘要
本实用新型涉及清洁装置领域，公开了等离子体清洁装置，包括用于握持的握持部，以及与握持部连接且用于产生低温等离子体的工作部，工作部包括第一电极、第二电极与介质层，第一电极与第二电极之间通过介质层进行分隔。本实用新型结构简单，体积小，操作便捷，可以手持使用，适合于实验室环境、家庭环境以及各类小体积产品的清洗。
基本信息
专利标题 ：
等离子体清洁装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920829877.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-03
授权号 ：
CN210586199U
授权日 ：
2020-05-22
发明人 ：
黄逸凡江敏高明王永刚易志健
申请人 ：
中国科学院深圳先进技术研究院
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区深圳大学城学苑大道1068号
代理机构 ：
北京市诚辉律师事务所
代理人 ：
耿慧敏
优先权 ：
CN201920829877.X
主分类号 ：
B08B7/00
IPC分类号 ：
B08B7/00
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
2020-05-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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