一种双开门真空镀膜设备
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摘要
一种双开门真空镀膜设备，解决现有技术存在的工件取放灵活性差，镀膜效率低，靶材直径小，弧光不够细腻，膜层均匀性差，涂层与基体的结合强度和韧性低，维护不方便的问题。包括内部设置有工件旋转架的长方体状真空室，其特征在于：真空室两侧开口处分别设置有真空密封门Ⅰ和真空密封门Ⅱ，真空密封门Ⅰ和真空密封门Ⅱ的两个弧形内侧壁上，一共设置有三个电弧蒸发源组，每个电弧蒸发源组均由四个电弧蒸发源和四个引弧装置构成，相邻的电弧蒸发源之间设置有加热装置；真空室前部设置有离化源和阳极，真空室后部设置有抽气口。其设计合理，结构紧凑，工件取放灵活，涂层与基体结合强度高、韧性好，靶材多元化、膜系多样化，镀膜效率高，维护方便。
基本信息
专利标题 ：
一种双开门真空镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920895685.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-14
授权号 ：
CN210085564U
授权日 ：
2020-02-18
发明人 ：
王海郭喜明王英智王开亮刘洋吴迪
申请人 ：
沈阳乐贝真空技术有限公司
申请人地址 ：
辽宁省沈阳市沈北新区七星大街63-71号楼102室
代理机构 ：
沈阳亚泰专利商标代理有限公司
代理人 ：
王荣亮
优先权 ：
CN201920895685.9
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2020-02-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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