一种用于晶片加工的全区域镀膜设备
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

本实用新型公开了一种用于晶片加工的全区域镀膜设备,包括安装板、底座、第一冷凝管、冷却箱、制冷器、第二冷凝管、风机、门体、抽真空接头、真空泵、镀膜室、排气接头、进气管、水箱、散热片和半导体制冷片。本实用新型通过冷却机构可使温度较低的气体通过第一冷凝管内,此时镀膜室内的热量被经过第一冷凝管温度降低的气体带走,从而达到冷却降温的效果,冷却降温效果较好,有利于缩短镀膜室降温所需的时间,有利于保证真空镀膜设备的正产工作;本实用新型的抽真空机构在抽真空时,可对抽出的空气中的灰尘进行清除,有利于避免抽出的灰尘飘散在镀膜设备周围情况的发生,便于提高镀膜设备放置空间的无尘等级。

基本信息
专利标题 :
一种用于晶片加工的全区域镀膜设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920977103.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-26
授权号 :
CN210420147U
授权日 :
2020-04-28
发明人 :
葛文志
申请人 :
浙江嘉美光电科技有限公司
申请人地址 :
浙江省嘉兴市海宁市长安镇海宁高新技术产业园区新潮路15号
代理机构 :
杭州五洲普华专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
张瑜
优先权 :
CN201920977103.1
主分类号 :
C23C14/56
IPC分类号 :
C23C14/56  C23C16/54  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备;维持真空的装置,例如真空锁定器
法律状态
2021-07-20 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : C23C 14/56
变更事项 : 专利权人
变更前 : 浙江嘉美光电科技有限公司
变更后 : 浙江美迪凯光学半导体有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 314423 浙江省嘉兴市海宁市长安镇海宁高新技术产业园区新潮路15号
变更后 : 314423 浙江省嘉兴市海宁市长安镇(高新区)新潮路15号
2020-04-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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