半导体装置
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

实施方式提供一种能够抑制经由衬底表面的漏电流产生的半导体装置。根据一实施方式,半导体装置具备第1芯片,所述第1芯片具有:第1衬底;第1晶体管,设置在所述第1衬底上;以及第1焊垫,设置在所述第1晶体管的上方,且与所述第1晶体管电连接。所述装置还具备第2芯片,所述第2芯片具有:第2焊垫,设置在所述第1焊垫上;第2衬底,设置在所述第2焊垫的上方,包含第1及第2扩散层,所述第1及第2扩散层中的任一个电连接于所述第2焊垫;以及分离绝缘膜或分离槽,在所述第2衬底内,至少从所述第2衬底的上表面延伸到下表面将所述第1扩散层与所述第2扩散层之间分离。

基本信息
专利标题 :
半导体装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921169343.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-23
授权号 :
CN210805772U
授权日 :
2020-06-19
发明人 :
内山泰宏荒井伸也坂田晃一冨松孝宏
申请人 :
东芝存储器株式会社
申请人地址 :
日本东京
代理机构 :
北京律盟知识产权代理有限责任公司
代理人 :
杨林勳
优先权 :
CN201921169343.5
主分类号 :
H01L25/18
IPC分类号 :
H01L25/18  H01L21/60  H01L23/482  H01L23/48  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L25/00
由多个单个半导体或其他固态器件组成的组装件
H01L25/18
包含在H01L27/00至H01L51/00各组中两个或多个同一大组的不同小组内的类型的器件
法律状态
2022-02-25 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : H01L 25/18
变更事项 : 专利权人
变更前 : 东芝存储器株式会社
变更后 : 铠侠股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 日本东京
变更后 : 日本东京
2020-06-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332