一种用于半导体切割设备的清洗冷却装置
授权
摘要

本实用新型涉及清洗冷却技术领域,尤其是一种用于半导体切割设备的清洗冷却装置,包括切割设备电柜,所述切割设备电柜顶面固定有工作台,所述工作台上设有切割装置,所述切割装置两侧分别设有对称设有左挡板和右挡板,所述右挡板通过调节机构连接有水冷喷头,所述左挡板和右挡板共同固定有后侧板,所述后侧板上镶嵌有盒式风扇,所述后侧板上设置有高度调节机构,所述水冷喷头连接有输送机构。本实用新型通过盒式风扇配合水冷喷头可对半导体切割处进行快速冷却,而盒式风扇的吹风方向可将碎屑吹出工作台,以免影响后续切割,另外还设置调节机构和高度调节机构,可使清洗冷却装置适用与不同高度的半导体切割设备。

基本信息
专利标题 :
一种用于半导体切割设备的清洗冷却装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921184731.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-25
授权号 :
CN210880356U
授权日 :
2020-06-30
发明人 :
张永良
申请人 :
浙江申鑫电子有限公司
申请人地址 :
浙江省绍兴市新昌县七星街道三花路2号
代理机构 :
浙江千克知识产权代理有限公司
代理人 :
周雷雷
优先权 :
CN201921184731.0
主分类号 :
B28D5/02
IPC分类号 :
B28D5/02  B28D7/02  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B28
加工水泥、黏土或石料
B28D
加工石头或类似石头的材料
B28D5/00
宝石、宝石饰物、结晶体的精细加工,例如半导体材料的精加工;所用设备
B28D5/02
用旋转工具的,例如钻具
法律状态
2020-06-30 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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