一种原子层沉积设备用工艺残余气体的过滤装置
授权
摘要
本实用新型涉及薄膜制备技术领域，尤其涉及一种原子层沉积设备用工艺残余气体的过滤装置，其特征在于：所述过滤装置设置在原子层沉积真空腔体与用于抽吸所述原子层沉积真空腔体内工艺残余气体的真空干泵之间；所述过滤装置至少包括冷凝过滤装置以及反应过滤装置，所述冷凝过滤装置的入口与所述原子层沉积真空腔体相连接，出口与所述反应过滤装置的入口相连接，所述反应过滤装置的出口与所述真空干泵相连接。本实用新型的优点是：1)可实现过滤99%的原子层沉积残余工艺气体；2)大大的减少粉尘进入到干泵中，延长干泵的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
一种原子层沉积设备用工艺残余气体的过滤装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921510660.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-11
授权号 ：
CN210420154U
授权日 ：
2020-04-28
发明人 ：
靳伟崔国东戴秀海
申请人 ：
光驰科技（上海）有限公司
申请人地址 ：
上海市宝山区宝山城市工业园区城银路267号
代理机构 ：
上海申蒙商标专利代理有限公司
代理人 ：
周宇凡
优先权 ：
CN201921510660.9
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 B01D5/00 B01D46/00 B01D53/76
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2020-04-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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