一种光刻版
授权
摘要
本申请公开了一种光刻版，包括光刻基板；多个第一沟槽图案，分布在多个芯片图案区内，每个第一沟槽图案用于分别形成相应的一个芯片区中的第一沟槽；以及多个第二沟槽图案，分布在划片区内，每个第二沟槽图案分别用于形成划片道中的第二沟槽，划片道用于限定每个芯片区的边缘，其中，多个第二沟槽图案中的至少部分沟槽延伸方向与所述多个第一沟槽图案的部分沟槽延伸方向不平行，使得第二沟槽中产生的应力与第一沟槽中产生的应力之间存在一定的角度，应力在方向上相互交叉，继而将晶圆中的多个芯片相互隔离，使得各个芯片中的应力无法叠加，从而改善了整个晶圆的翘曲形变。
基本信息
专利标题 ：
一种光刻版
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921515122.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-11
授权号 ：
CN210721012U
授权日 ：
2020-06-09
发明人 ：
何火军高周妙庞海舟隋晓明罗宁赵学锋
申请人 ：
杭州士兰集昕微电子有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市杭州经济技术开发区10号大街(东)308号13幢
代理机构 ：
北京成创同维知识产权代理有限公司
代理人 ：
蔡纯
优先权 ：
CN201921515122.9
主分类号 ：
G03F1/00
IPC分类号 ：
G03F1/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
法律状态
2020-06-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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