一种均匀气流化学气相沉积炉
授权
摘要
一种均匀气流化学气相沉积炉，属于材料制备和化学合成技术领域，包括炉体、注入机构和活动装置；所述炉体下端螺栓连接有一组支撑脚，且所述炉体内部中空设置有反应腔，所述反应腔内部放置有气化箱，所述气化箱上端面开设有空腔，所述反应腔下端壁开设有第一圆腔，所述第一圆腔内部固设有环形圈；炉体上端面设置有注入机构，所述注入机构下端穿过炉体上端至空腔，且所述炉体下端面开设有第二圆腔，所述第二圆腔和所述第一圆腔相连通，且所述第二圆腔内部设置有活动装置；本实用新型结构简单，有效的保证设备的使用寿命以及沉积效果，避免人工操作带来的人工干扰因素，进一步的提高产品质量的稳定性。
基本信息
专利标题 ：
一种均匀气流化学气相沉积炉
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921831560.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-29
授权号 ：
CN211005610U
授权日 ：
2020-07-14
发明人 ：
托马斯·斌·余余海粟朱轶方陆骁莹
申请人 ：
杭州超然金刚石有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市萧山区经济技术开发区鸿兴路158号2号楼2-117
代理机构 ：
杭州信义达专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
陈继算
优先权 ：
CN201921831560.6
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2020-07-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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