排液装置及晶圆处理设备
授权
摘要
该实用新型涉及一种排液装置及晶圆处理设备，能够缓解排液管排液不畅的问题。其中，所述排液装置包括：排液管，用于排液；过滤器，设置至所述排液管，用于滤除流入至所述排液管内的液体中的固体杂质，所述过滤器包括至少两个滤网，且所有所述滤网层叠设置。
基本信息
专利标题 ：
排液装置及晶圆处理设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922143158.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-02
授权号 ：
CN210837678U
授权日 ：
2020-06-23
发明人 ：
陈创
申请人 ：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市蜀山区经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
代理机构 ：
上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孙佳胤
优先权 ：
CN201922143158.5
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-06-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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