一种光学薄膜加工用的镀膜基板
授权
摘要
本实用新型涉及光学镀膜技术领域，且公开了一种光学薄膜加工用的镀膜基板，包括基板主体和镀膜层，所述镀膜层设置在基板主体上方，所述基板主体的底面两端固定连接有连接板，所述连接板为U形结构，所述连接板上开设有前后贯穿的滑孔，所述基板主体的下方设置有滑杆，所述滑杆的两端穿设滑孔设置，该种光学薄膜加工用的镀膜基板，通过在基板主体的底面设置通过连接块固定的滑杆与拉动装置的配合，拉动装置可对基板主体提供向下的拉力以抵抗镀膜层的切应力，从而实现防止变形，且拉动装置为可拆卸设置，根据基板主体的材质的不同，基板的形变能力不同，可进行拉动装置数量和间距的调节，以满足抗形变需求。
基本信息
专利标题 ：
一种光学薄膜加工用的镀膜基板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922342242.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-23
授权号 ：
CN211497761U
授权日 ：
2020-09-15
发明人 ：
刘凌松陈国彦罗国星李朋辉伍梓辉周培李松
申请人 ：
深圳正和捷思科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙岗区坪地街道佳兴路2号
代理机构 ：
中山市兴华粤专利代理有限公司
代理人 ：
邓爱军
优先权 ：
CN201922342242.X
主分类号 ：
C23C14/22
IPC分类号 ：
C23C14/22 G02B1/10
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
法律状态
2020-09-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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