一种磁控溅射镀膜机用基体固定夹具
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摘要
本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜机用基体固定夹具。该基体固定夹具包括方形底板和固定件，所述固定件包括压片结构和定位杆结构，压片结构包括四个压片，该四个压片分别设置在底板表面侧的四个角的位置上；定位杆结构包括四个定位杆，分别设置在底板底面侧的四个角的位置上；每个定位杆具有内杆、弹簧杆、外杆，内杆具有上半部分和下半部分，弹簧杆设置在这两部分之间；内杆、弹簧杆和外杆在长度方向共轴线；内杆的下端嵌入外杆上端，并且内杆相对于外杆的沿轴线方向的位置可调；内杆上端通过螺钉与底板固定连接；在内杆的上半部分和外杆的下部分别设有定位螺母。该基体固定夹具能够满足不同规格基体的固定，保证基体在镀膜过程中加工状态稳定。
基本信息
专利标题 ：
一种磁控溅射镀膜机用基体固定夹具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922426272.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-27
授权号 ：
CN211595786U
授权日 ：
2020-09-29
发明人 ：
于庆河王维静米菁郝雷李世杰李帅杜淼王吉宁
申请人 ：
有研工程技术研究院有限公司
申请人地址 ：
北京市怀柔区雁栖经济开发区兴科东大街11号
代理机构 ：
北京北新智诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘秀青
优先权 ：
CN201922426272.9
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/35
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-09-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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