集成电路器件刻除装置
授权
摘要

本实用新型公开了集成电路器件刻除装置,包括底座板、下模仁、导柱、上连接板、上模板和刻除装置,下模仁通过连接架固定连接在底座板的顶面,多个导柱连接在底座板的顶面,上连接板贯穿导柱并和导柱滑动连接,上连接板的底面连接有上模板,上模板和上连接板之间连接有多个弹簧座;上模板上设有多个贯穿上模板的连接通孔,刻除装置和上模板的连接通孔可拆卸连接;工件连接在下模仁内,上模板下降带动刻除装置对工件刻除;本实用新型设计的刻除装置,能够将其安装在需要的位置,使用时,通过下压上连接板带动刻除装置下降,能够完成对集成电路上器件的刻除,提高了刻除的安全性可准确性,保证了刻除的效果。

基本信息
专利标题 :
集成电路器件刻除装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201922434986.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-12-30
授权号 :
CN211088220U
授权日 :
2020-07-24
发明人 :
陈国军
申请人 :
上海翔芯集成电路有限公司
申请人地址 :
上海市嘉定区徐行镇劳动路707弄218号10幢
代理机构 :
上海合进知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
王寿刚
优先权 :
CN201922434986.4
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-07-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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