一种集成电路器件刻除装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种集成电路器件刻除装置，涉及集成电路技术领域，包括操作台和刻除装置，所述刻除装置设置于操作台的顶部，所述刻除装置的内壁上活动连接有活动杆，所述操作台的上表面分别设置有烟尘处理机构和稳定机构，所述烟尘处理机构包括有固定环，所述固定环与活动杆的外表面活动连接。本实用新型通过采用吸尘罩、吸尘软管、风机、喷淋处理装置、进水管以及排污管之间的配合，首先通过风机、吸尘罩以及吸尘软管之间的配合，将刻除过程产生的烟尘以及颗粒物经进尘管吸入到喷淋处理装置中，并通过进水管的配合，进行喷淋吸附处理，处理完成之后的污水经排污管排出，避免烟尘过多的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种集成电路器件刻除装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122176291.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-09
授权号 ：
CN216250645U
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
周加红
申请人 ：
周加红
申请人地址 ：
山西省晋城市城区泽州南路1151号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202122176291.8
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 B01D47/06
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-04-08 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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