用于调节光学光子集成电路中的制造差异的装置和方法
授权
摘要
提供了一种光子集成电路，该光子集成电路适于补偿由制造差异引起的无意制造折射率分布，例如梯度。该光子集成电路包括至少一个热源(325)和隔开的热沉(330)，从而在热源(325)和隔开的热沉(330)之间产生光子集成电路的热梯度，该热梯度提供相反的热折射率分布，以修正制造折射率分布。光子集成电路可以被构造为具有以下特征：具有有意的结构化折射率分布，该有意的结构化折射率分布确保任何无意制造折射率分布能够通过由热源(325)产生的相反的热折射率分布来修正。
基本信息
专利标题 ：
用于调节光学光子集成电路中的制造差异的装置和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111492279A
申请号 ：
CN201980006587.8
公开（公告）日 ：
2020-08-04
申请日 ：
2019-01-24
授权号 ：
CN111492279B
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
多米尼克·约翰·古德威尔德瑞坦·瑟娄帕特瑞克·杜麦思
申请人 ：
华为技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼
代理机构 ：
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 ：
熊永强
优先权 ：
CN201980006587.8
主分类号 ：
G02B6/12
IPC分类号 ：
G02B6/12
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导；包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
G02B6/10
光波导式的
G02B6/12
集成光路类型
法律状态
2022-05-17 ：
授权
2020-08-28 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 6/12
申请日 : 20190124
申请日 : 20190124
2020-08-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
