基于物理气相沉积的渐变色镀层制作方法及产品
授权
摘要
本发明公开一种基于物理气相沉积的渐变色镀层制作方法及产品。所述方法包括:使用遮挡部对待处理产品进行遮挡,使得所述待处理产品的一部分处于遮蔽区以及使得所述待处理产品的另一部分处于完全溅射区;所述遮挡部与所述待处理产品的一部分的表面之间存在第一间隙,使得通过物理气相沉积工艺对处于所述完全溅射区的所述待处理产品的另一部分的表面进行第一处理时,大部分粒子与反应气体反应形成化合物沉积在处于所述完全溅射区的所述另一部分的表面,且有一部分粒子进入所述第一间隙并与反应气体反应形成化合物沉积在处于所述遮蔽区的所述一部分的表面。所述产品包括由所述方法制作得到的待处理产品。本发明可避免颜色跳跃而导致的断层。
基本信息
专利标题 :
基于物理气相沉积的渐变色镀层制作方法及产品
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN111519149A
申请号 :
CN202010426032.3
公开(公告)日 :
2020-08-11
申请日 :
2020-05-19
授权号 :
CN111519149B
授权日 :
2022-05-03
发明人 :
周飞曹玉军匡乐义
申请人 :
深圳森丰真空镀膜有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市光明新区公明街道钟表基地森丰大厦
代理机构 :
深圳新创友知识产权代理有限公司
代理人 :
黄议本
优先权 :
CN202010426032.3
主分类号 :
C23C14/34
IPC分类号 :
C23C14/34 C23C14/04 G04B45/00
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2022-05-03 :
授权
2020-09-04 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/34
申请日 : 20200519
申请日 : 20200519
2020-08-11 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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