图形设计方法及其系统、掩膜版组合、设备及存储介质
实质审查的生效
摘要
一种图形设计方法及其系统、掩膜版组合、设备及存储介质,所述图形的形成方法包括双重图形化,图形设计方法包括:提供初始图形,包括多个初始图案;设置临界拆分线宽和临界拆分间距;设定在沿第二方向上的投影相交叠的参考边缘图案;基于临界拆分线宽和临界拆分间距以及初始图案与相邻初始图案或参考边缘图案之间在沿第二方向上的投影相交叠,获得多个待测图案,待测图案与参考边缘图案组成闭合环;获取待测图案的数量作为第一数值;获得闭合环中相邻初始图案之间的间距大于分解图案最小线宽的数量作为第二数值;判断第一数值和第二数值之和是否为奇数。本发明实施例对初始图形是否能够进行双重图形化进行判断,有利于避免双重图形化冲突。
基本信息
专利标题 :
图形设计方法及其系统、掩膜版组合、设备及存储介质
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114330171A
申请号 :
CN202011061117.2
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2020-09-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
吴维维吴宗晔王兴荣
申请人 :
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区张江路18号
代理机构 :
上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
高静
优先权 :
CN202011061117.2
主分类号 :
G06F30/30
IPC分类号 :
G06F30/30 G06F113/18 G06F119/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G06
计算;推算或计数
G06F
电数字数据处理
G06F30/30
电路设计
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G06F 30/30
申请日 : 20200930
申请日 : 20200930
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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