晶舟底盘、晶舟和扩散炉
实质审查的生效
摘要

本申请属于半导体技术领域,具体涉及一种晶舟底盘、晶舟和扩散炉,该晶舟底盘包括本体和固定件,固定件连接在本体朝向晶圆的一侧上,且固定件与本体为一体结构,固定件设置成用于固定热电偶。根据本申请实施例的晶舟底盘,固定件和本体为一体结构,即使热电偶发生倾斜时,固定件相对本体也不会发生相对移动,解决了本体磨损产生粉末的问题,避免粉末对加工工艺的影响,提高了晶圆的加工效果。将固定件设置在本体朝向晶圆的一侧,在进行工艺前的准备工作时,只需要使固定件与热电偶配合即可,加工结束后,将热电偶取走,无需对固定件进行拆装,简化了操作,减少了工作人员的工作量。

基本信息
专利标题 :
晶舟底盘、晶舟和扩散炉
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114361082A
申请号 :
CN202011090351.8
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2020-10-13
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
郭世根李亭亭蒋浩杰项金娟丁云凌田光辉
申请人 :
中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
申请人地址 :
北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 :
北京辰权知识产权代理有限公司
代理人 :
何家鹏
优先权 :
CN202011090351.8
主分类号 :
H01L21/673
IPC分类号 :
H01L21/673  H01L21/67  C30B31/06  C30B31/14  F27D11/00  F27D19/00  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/673
使用专用的载体的
法律状态
2022-05-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/673
申请日 : 20201013
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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