半导体制程废处理液的排放暂存装置
实质审查的生效
摘要
一种半导体制程废处理液的排放暂存装置,包含储液容器及过滤模块。储液容器具有底壁、相对于底壁的顶壁、连接底壁与顶壁的围壁及封盖。顶壁设有废处理液进入口及杂质清理口。封盖设于顶壁且可开地封闭杂质清理口。过滤模块包括过滤槽及感测器。过滤槽位于储液容器内并位于废处理液进入口及杂质清理口下方且具有网状的底槽壁及侧槽壁,及靠近顶壁的宣泄口,底槽壁与侧槽壁共同界定过滤空间且用以过滤废处理液中的杂质,底槽壁与底壁相间隔。感测器对应过滤槽设置以侦测过滤槽内所累积的杂质是否需要清理。通过过滤模块将废处理液中的杂质过滤,而在清理过滤槽内的杂质时并不需要排空储液容器内的废处理液,因此制程机台不需要停机,而不影响产能。
基本信息
专利标题 :
半导体制程废处理液的排放暂存装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114470920A
申请号 :
CN202011143556.8
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2020-10-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
赵晋亿蔡文平
申请人 :
辛耘企业股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾台北市
代理机构 :
北京泰吉知识产权代理有限公司
代理人 :
谢琼慧
优先权 :
CN202011143556.8
主分类号 :
B01D29/11
IPC分类号 :
B01D29/11 B01D29/60
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D29/00
不包括在组B01D24/00至B01D27/00中的过滤期间过滤元件不动的过滤器,例如压滤器或吸滤器;其过滤元件
B01D29/11
带有袋、笼、软管、管、套筒或类似过滤元件的
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B01D 29/11
申请日 : 20201023
申请日 : 20201023
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载