本发明提供了一种用于金刚石厚膜的生长装置，通过把设备中的样品台分成两个部分，在样品台进水管中设置一根可以上下移动的驱动杆带动样品台中心的小样品台上下移动，进而带动放置在小样平台上方的金刚石衬底上下移动，以调节金刚石衬底的上表面在等离子体中的相对位置。本发明的优点该结构可以保证金刚石生长表面在等离子体中的位置不会随着生长厚度的改变而改变，确保了金刚石生长表面温度和自由基团浓度的恒定，减小金刚石生长过程中的应力积累，降低金刚石由于厚度变化而导致的应力累积过大产生裂纹的风险，可用于金刚石长时间恒定速率生长。