内嵌掩模的微透镜阵列及使用方法
公开
摘要
本发明提供了一种内嵌掩模的微透镜阵列及使用方法，包括基板、无机层、掩膜层以及微透镜阵列；基板的一侧面上形成无机层，无机层上与基板相背离的一侧面上形成掩膜层；掩膜层上与基板相背离的一侧面上形成微透镜阵列；掩膜层上的镂空与微透镜阵列上的微透镜一一对应；掩模层位于微透镜阵列入射光方向的焦点深度位置。本发明中在基板的一侧面上形成掩膜层，在掩膜层上与基板相背离的一侧面上形成微透镜阵列，同时控制连续微透镜表面的面型，能够使得经过微透镜阵列系统的光束得到约束，有效地过滤掉次级衍射和杂散光，进而提高有效光的利用率，提高了散斑状结构光投射后中光斑点的对比度，便于在光斑点图像中进行光斑点的提取。
基本信息
专利标题 ：
内嵌掩模的微透镜阵列及使用方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114545532A
申请号 ：
CN202011291940.2
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-11-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
张天舒黄瑞彬朱力吕方璐汪博
申请人 ：
深圳市光鉴科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区白石路3609号深圳湾科技生态园二区9栋518B
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202011291940.2
主分类号 ：
G02B3/00
IPC分类号 ：
G02B3/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B3/00
简单或复合透镜
法律状态
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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